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ガス溶射(1)(ワイヤ、ロッド、チューブ)

溶射材料:SUS410(13% Crステンレス鋼・200倍)
溶射トーチの中心孔から、線状あるいは棒状になっている溶射材を挿入。
酸素―燃料炎によって溶射材を溶融し、周囲からの圧縮空気のジェットで微粒化して吹き飛ばし、素材表面に吹きつけます。
 
一般的な特徴
 
・低温溶射であるため、被溶射材が変質、変化しない。
色々な金属の溶射が可能。
・ロッドやチューブ形状で、比較的融点の低いセラミックスの溶射が可能。
・アーク溶射に比べて溶射粒子を細かくしたり、荒くしたり色々な皮膜が得られる。
・アーク溶射に比べてクロム、カーボンの損失が少ない。

ガス溶射(2)(パウダー)

溶射材料:ニッケル自溶合金(再溶融処理・200倍)
送給ガスにより送給口から送り込まれた溶射粉末材は、酸素―燃料炎によって溶融され、素材に吹きつけられます。特にこの溶射法は、自溶合金の溶射に用いられます。
また、一般金属はもちろんセラミックスやプラスチック※1の溶射も可能です。
 
自溶合金溶射法 self-fluxing alloy spraying
上記のガスパウダー溶射法によって自溶合金粉末材料を溶射した後、再溶融処理※2を行うことにより、無気孔の溶着金属層が形成されます。
 
自溶合金溶射の一般的な特長
・皮膜は摩耗係数が低く、耐摩耗性に優れている。
・18-8ステンレスより耐食惟に優れ、高ニッケル合金同等の耐食性を有する。
・高温下における硬度が高い。
・溶着盛金であり、肉盛溶接のような素材の溶け込みがないため、厚肉盛の必要はなく均一な硬さが得られる。
・炭化物やセラミックスを分散させることにより、高耐摩耗などの付加価値が生まれる。
※1プラスチック溶射材料としては、ナイロン11、ポリエチレン、エポキシ樹脂、変性EVAが可能です。
※2再溶融処理とは溶射皮膜を1,000~1,100℃で半溶融状態にして、母材と冶金的に結合させることをいいます。
また、合金中の硼素およびケイ素は皮膜中の酸化物を還元し、スラグ化して表層に浮上するため皮膜は無気孔な組織となります。その際、合金中の硼素や炭素が硼化物、炭水化物として析出し、耐摩耗性が向上します。
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